半导体设备板块冲高走低，“再全球化”挑战重重
7月3日，半导体设备板块在开盘经历短暂冲高之后走低。截至全天收盘，半导体设备指数（884229）报85313.456点，跌幅0.74%。个股方面，北方华创（002371.SZ）报收303.92元/股，跌幅4.32%；拓荆科技（688072.SH）报收420.00元/股，跌幅1.40%；中微公司（688012.SH）报收153.20元/股，跌幅2.08%；耐科装备(688419.SH)报收42.00元/股，跌幅1.36%。
消息面上，6月30日荷兰政府颁布了有关半导体设备出口管制的新条例。根据新出口管制条例规定，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统（即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统）。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证，并将向ASML提供许可证所附条件的细节。
ASML30日回应第一财经记者称，正如公司在今年三月发布的消息中所述，这些新的出口管制条例针对对象为先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。
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商务部30日针对这一事件评价表示，荷方应从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发，尊重市场原则和契约精神，避免有关措施阻碍两国半导体行业正常合作和发展，不滥用出口管制措施，切实维护中荷企业和双方共同利益，维护全球半导体产业链供应链稳定。
记者了解到，荷兰政府出口限制条例主要针对的是ASML型号为TWINSCANNXT:2000i及后续推出的TWINSCANNXT:2050i产品，两者均属于DUV系列ArF光刻机产品。官方公布的性能参数显示，上述两款光刻机产品的分辨率为≤38nm，主要面向制程节点为7-28nm。
目前市场上的光刻机按照迭代的先后顺序主要分为g-line、i-line、KrF、ArF、EUV五代，其中，g-line已逐渐被市场淘汰，第五代EUV光刻机的工艺节点目前是最优的，能够达到7nm以下。
在EUV光刻机市场方面，ASML目前处于绝对的垄断地位。光大证券的研报显示，ASML占有EUV光刻机100%的市场份额。据ASML财报数据，2022年EUV光刻机均价高达1.76亿欧元每台，远高于其他类型的光刻机。不过早在2019年，荷兰政府就限制了的EUV光刻机产品的出口。在7-28nm制程段，ASML目前也仅有TWINSCANNXT:1980Di这一较老的型号产品在出口管制条例之外。
日本政府本月也出台了类似的半导体制造设备出口管制措施，相关条例将于7月23日起实施。该措施将加强对23种芯片制造设备的出口管制，范围包括清洗、薄膜沉积、热处理、蚀刻、测试等。
不过，在上周末召开的SEMICON China 2023展会期间，记者发现了一个小细节。尽管日本政府已经颁布了相关政策，但无论是尼康（Nikon）半导体还是佳能（Canon）半导体，均在自己的展台上展示了自己最先进的产品。
尼康半导体公司的内部人士对记者表示，目前政策还没有落地，尼康作为日本的半导体企业，不得不遵守日本政府的规定，政策落地后，公司将会积极研究，在政策划定的范围之内和中国市场展开合作。
光大证券的数据显示，近年来，ASML、 Nikon、 Canon 三大企业光刻机在全球的销量稳步提升， 从 2015 年的 281 台增长至 2022 年的 551 台， 复合年均增长率达 10.10%， 销售收入由 2019 年的 945 亿元增长至 2022 年的 1318 亿元， 复合年均增长率达 11.73%， 其中 ASML 占据销量的 8 成以上。
